在生活中,您可能接触过各种电子产品,然后您可能不知道其中的某些组件,例如其中可能包含的**,然后让编辑者带领所有人学习有关n沟道MOSFET的知识。
半桥功率级模块。
几天前,Vishay Intertechnology,Inc.(纽约证券交易所股票代码:VSH)宣布推出一种新的30 V n沟道MOSFET半桥功率级模块-SiZF300DT,该模块结合了高端TrenchFET®。
和低侧SkyFET®带有集成肖特管的MOSFET将基极二极管组合在一个小型PowerPAIR® reg;中。
3.3毫米x 3.3毫米包装。
Vishay Siliconix SiZF300DT可提高功率密度和效率,同时有助于减少组件数量,简化设计并适用于计算和通信应用中的功率转换。
NMOS在英语中被称为N-金属-氧化物-半导体。
这意味着N型金属氧化物半导体,具有这种结构的晶体管称为NMOS晶体管。
MOS晶体管分为P型MOS晶体管和N型MOS晶体管。
由MOS管组成的集成电路称为MOS集成电路,由NMOS管组成的电路称为NMOS集成电路,由PMOS管组成的电路称为PMOS集成电路,由NMOS和PMOS管组成的互补MOS电路称为CMOS电路。
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几天前发布的器件中的两个MOSFET内部连接成半桥配置。
通道1 MOSFET在10 V和4.5 V时的最大导通电阻分别为4.5 mW和7.0 mW。
通道2 MOSFET在10 V和4.5 V时的导通电阻分别为1.84 mW和2.57 mW。
两个MOSFET的典型栅极电荷分别为6.9 nC和19.4 nC。
NMOS的特性Vgs大于某个值时,它将导通,适用于源极接地(低侧驱动)的情况,只要栅极电压达到4V或10V。
PMOS的特性,Vgs小于某个值,它将被打开,适用于将源连接到VCC(高端驱动器)的情况。
但是,尽管PMOS可以方便地用作高端驱动器,但由于导通电阻高,价格高,替换类型少,NMOS通常用于高端驱动器。
与具有类似导通电阻的双芯片器件的6mm x 5mm封装相比,SiZF300DT节省了65%的空间,并且是市场上最紧凑的集成产品之一。
该器件为设计人员提供了一种节省空间的解决方案,用于负载点(POL)转换,电源和用于图形加速器,计算机,服务器以及通信和RF网络设备的同步降压和DC / DC转换器。
在具有低掺杂浓度(提供大量可移动空穴)的P型硅衬底上,形成两个高掺杂浓度N +区域(N +区域具有大量的电子源,这些电子源为电流提供自由电子),并且用金属铝引出两个电极,分别是漏极D和源极S。
然后在半导体表面上覆盖一层薄的二氧化硅(SiO2)绝缘层,并在漏极和源极之间的绝缘层上安装铝电极(通常是多晶硅)作为栅极G。
衬底,它构成一个N沟道增强模式MOS管。
MOS管的源极和衬底通常连接在一起(大多数管在出厂前已连接)。
双MOSFET采用独特的引脚配置结构,电流相输出电流比具有相同封装的同类产品高11%。
此外,当输出电流超过20 A时,它具有更高的效率。
器件引脚配置和大的PGND焊盘还可增强散热,优化电路并简化PCB布局。
相信通过阅读以上内容,每个人都对n沟道MOSFET半桥功率级模块有了初步的了解。
同时,我希望每个人都能在学习过程中进行总结,以不断提高他们的设计水平。